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什么是溅射靶材？
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纯度：99.5%~99.9%
半导体：用于降低漏电流的高介电常数栅极介质高带宽存储器、航空航天（超音速飞机）光学涂层、敏感材料
纯度：99.9%~99.999%制造方法：真空熔炼法
薄膜形成超导材料耐热耐腐蚀应用
电容器制造薄膜成型（光学、航空航天）高温技术
纯度：99.5%~99.999%制备方法：溶解法
半导体电极集成电路液晶显示器
纯度：99.5%~99.99%
半导体：高介电常数绝缘薄膜、铁电存储器光学透镜、镜面镀膜表面涂层、耐腐蚀性、耐热性、核能
纯度：99.5%~99.98%制造方法：热等静压法，密度≥99%
汽车后视镜、半导体线束、显示器、硬盘、电子元件、装饰涂层、敏感材料
纯度：99.97%~99.9999%制备方法：溶解法
液晶显示屏触摸面板半导体电极
纯度：99.9% - 99.999%制造方法：烧结+轧制
半导体电极集成电路高功率电子器件中的散热层
纯度：99.9%~99.995%制造方法：真空熔炼法
半导体、显示器、太阳能电池板、用于电子设备的薄膜形成以及建筑玻璃
纯度：99.9%~99.99%制备方法：溶解法
半导体电极、集成电路、液晶显示器、触摸面板
純度：99.9~99.9999％ 製造方法：溶錬法.焼結法
光学フィルムガラスコーティング金型工具硬化
纯度>99.5%~99.9%制造方法：真空熔炼法
薄膜成型、微电子制造建筑玻璃用低辐射镀膜液晶面板、存储介质、半导体和太阳能电池
纯度 > 99.95%制造方法：真空熔炼尺寸：809.5 x 879.5 x 16毫米（单件出售）
平板显示器 (FPD)磁记录介质、磁传感器
纯度>99.95%制造方法：粉末冶金法
微芯片、薄膜形成、太阳能电池金属线材用扩散抑制剂和粘合剂
集成电路（IC）制造半导体和微电子产业高质量薄膜沉积
纯度 >99.999%制造方法：烧结
平板显示器（FPD）磁性记录介质磁传感器
纯度>99.97%制造方法：真空熔炼法
用作背衬板硬度≥1/2H
纯度>99.9%制造方法：真空熔炼法
半导体集成电路（超大规模集成电路）平板显示器光盘、表面涂层
纯度>99.999%制造方法：熔炼法
切削刀具涂层、阻隔膜形成半导体器件（晶体管和集成电路）显示和装饰涂层
纯度>98%制造方法：真空熔炼法
纯度>99.99%密度≥99.7%粉末冶金法90:10wt%；95:5wt%；99:1wt%；85:15wt%
它在屏幕和太阳能电池的透明电极中发挥着重要作用，并被用作建筑和汽车窗户中的透明加热元件材料，以防止冷凝和积雪。
纯度>99.9% *导电性密度≥99%热等静压法
光学产品的微型化和高性能多层陶瓷电容 器 (MLCC)液晶面板、硬盘半导体薄膜形成、太阳能电池
纯度>99.995%密度(2.6g/cm³)烧结方法
半导体制造工艺光学设备化学实验室设备医疗设备
纯度 > 99.9% *有毒密度 ≥ 85%真空烧结，高压法
用于高清显示器和光学器件的薄膜沉积光学涂层和传感器技术用于有机酸生产的催化剂提高太阳能电池的性能和效率
纯度 > 99.99%密度 ≥ 85%烧结方法高压烧结法
防静电涂料广泛应用于油漆中，可显著减少静电积聚，保护设备和人员的安全。
纯度 > 99.99%密度 ≥ 85%烧结方法，高压法
屏幕制造的关键材料用于触摸屏操作的透明电极防静电膜、电磁波屏蔽膜透明加热器、气体传感器
阻变式随机存取存储器 (RRAM)透明导电氧化物 (TCO)气体传感器自旋电子学
纯度 >99.9% 导电性密度 ≥90%真空烧结，高压法
高折射率透镜、光学滤波器、半导体硬盘驱动器等记录介质用于平板显示器的薄膜制备光催化剂（分解大气中的氮氧化物，具有抗菌性能）
纯度>99.9% *不导电密度≥90%热等静压法
光学产品的微型化和高性能多层陶瓷电容器 (MLCC)液晶面板、硬盘半导体薄膜形成、太阳能电池
纯度 > 99.99% *可能残留烧结痕迹密度 ≥ 90%烧结法，高压法
LCD、OLED、等离子显示器等触摸面板中的电压施加电极太阳能电池中的透明电极防雾挡风玻璃和商店橱窗
纯度>99.9%密度≥90%粉末冶金法
芯片制造中的绝缘薄膜、高性能电子元件传感器、太阳能电池板、显示器等光学器件、建筑玻璃的表面改性导电薄膜的形成、太阳能电池
純度>99.99%密度≧99.7%焼結法
高屈折率レンズ光学フィルター非導電層
纯度>99.99999%制造方法：SZ法
集成电路 (IC)、大规模集成电路 (LSI)光学器件所需的薄膜形成技术传感器、太阳能电池、变压器
纯度>99.99999%密度 (2.33/cm³)制造方法：SZ法
纯度 >99.999%制造方法：熔融烧结
LCD制造设备中的CVD设备、退火炉、扩散炉和薄膜沉积薄膜硅太阳能电池和太阳能电池板齿轮、传感器和微静电马达
纯度 >99.999%密度 (2.33/cm³)制造方法：熔融烧结
化学气相沉积设备、退火炉、扩散炉、液晶制造设备薄膜硅太阳能电池、太阳能电池板微结构，例如齿轮、传感器和微静电马达
CIGS太陽電池のバッファ層（核心用途）カルコゲン化合物薄膜の硫黄源In₂S₃材料自体は光触媒、光電気化学的水分解、ガスセンシングなどの分野でも研究されています
CIGSターゲットは、スパッタリング法で太陽電池の心臓部である光吸収層を作るための原料であり、用いるターゲットの種類（多元系合金か化合物か）によって成膜プロセスと得られる膜質が異なります。
相変化メモリ（PCM/PRAM）、GeSbTe薄膜は結晶状態と非晶質状態の間の可逆的な相変化を利用してデータを記憶し、半導体不揮発性メモリの製造に用いられます。
