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什么是溅射靶材?
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电话:06-6732-9818
传真:06-6732-9819
营业时间:周一至周五 9:00-17:00
纯度:99.5%~99.9%
半导体:用于降低漏电流的高介电常数栅极介质高带宽存储器、航空航天(超音速飞机)光学涂层、敏感材料
纯度:99.9%~99.999%制造方法:真空熔炼法
薄膜形成超导材料耐热耐腐蚀应用
电容器制造薄膜成型(光学、航空航天)高温技术
纯度:99.5%~99.999%制备方法:溶解法
半导体电极集成电路液晶显示器
纯度:99.5%~99.99%
半导体:高介电常数绝缘薄膜、铁电存储器光学透镜、镜面镀膜表面涂层、耐腐蚀性、耐热性、核能
纯度:99.5%~99.98%制造方法:热等静压法,密度≥99%
汽车后视镜、半导体线束、显示器、硬盘、电子元件、装饰涂层、敏感材料
纯度:99.97%~99.9999%制备方法:溶解法
液晶显示屏触摸面板半导体电极
纯度:99.9% - 99.999%制造方法:烧结+轧制
半导体电极集成电路高功率电子器件中的散热层
纯度:99.9%~99.995%制造方法:真空熔炼法
半导体、显示器、太阳能电池板、用于电子设备的薄膜形成以及建筑玻璃
纯度:99.9%~99.99%制备方法:溶解法
半导体电极、集成电路、液晶显示器、触摸面板
純度:99.9~99.9999% 製造方法:溶錬法.焼結法
光学フィルムガラスコーティング金型工具硬化
纯度>99.5%~99.9%制造方法:真空熔炼法
薄膜成型、微电子制造建筑玻璃用低辐射镀膜液晶面板、存储介质、半导体和太阳能电池
纯度 > 99.95%制造方法:真空熔炼尺寸:809.5 x 879.5 x 16毫米(单件出售)
平板显示器 (FPD)磁记录介质、磁传感器
纯度>99.95%制造方法:粉末冶金法
微芯片、薄膜形成、太阳能电池金属线材用扩散抑制剂和粘合剂
集成电路(IC)制造半导体和微电子产业高质量薄膜沉积
纯度 >99.999%制造方法:烧结
平板显示器(FPD)磁性记录介质磁传感器
纯度>99.97%制造方法:真空熔炼法
用作背衬板硬度≥1/2H
纯度>99.9%制造方法:真空熔炼法
半导体集成电路(超大规模集成电路)平板显示器光盘、表面涂层
纯度>99.999%制造方法:熔炼法
切削刀具涂层、阻隔膜形成半导体器件(晶体管和集成电路)显示和装饰涂层
纯度>98%制造方法:真空熔炼法
纯度>99.99%密度≥99.7%粉末冶金法90:10wt%;95:5wt%;99:1wt%;85:15wt%
它在屏幕和太阳能电池的透明电极中发挥着重要作用,并被用作建筑和汽车窗户中的透明加热元件材料,以防止冷凝和积雪。
纯度>99.9% *导电性密度≥99%热等静压法
光学产品的微型化和高性能多层陶瓷电容器 (MLCC)液晶面板、硬盘半导体薄膜形成、太阳能电池