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钛(Ti)靶材

纯度:99.5%~99.999%

制备方法:溶解法


・半導体・エレクトロニクス​

・バリア層・密着層​

・金属電極・シード層​

・光学・装飾コーティング​

・光学コーティング: 光学レンズの反射防止膜や光学フィルターの形成に用いられます。​

・装飾コーティング​

・工具コーティング​

・弊社Tiターゲットの特徴​

・純度≧5N​

・成膜の均一性を確保するため、微細で均一な結晶粒組織が重要視されます。​

・合金ターゲット: Ti-Al、Ti-Ni、Ti-Cu、Ti-Crなど合金ターゲットも提供されています。​

・具体的な純度や形状(円形・角形・回転型)の仕様が必要であれば、お知らせください。​

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钛靶

Sputtercore有限公司

〒532‐0011

大阪府大阪市淀川区西中岛6-3-32

新大阪大厦2号楼707室

电话:06-6732-9818

传真:06-6732-9819

营业时间:周一至周五 9:00-17:00

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2026年6月25日 获得认证
ISO 9001(质量管理体系)

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