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铁(Fe)靶材

纯度:99.9%~99.999%

制造方法:真空熔炼法


・磁気記録・磁気デバイス​

・鉄は強磁性体であるため、磁気記録媒体(HDDメディア)や磁気ヘッド、MRAM(磁気抵抗メモリ)などの製造に使用されます。​

・Co-Fe系やFe系の合金ターゲットは、磁気特性を制御するための薄膜形成に用いられます。(弊社も製造可能)​

・半導体・エレクトロニクス​

・工業用コーティング​

・その他の用途​

・エネルギー分野:エネルギー変換デバイスの磁気コア製造に使用されることがあります。​

・光学・ディスプレイ​

铁靶

Sputtercore有限公司

〒532‐0011

大阪府大阪市淀川区西中岛6-3-32

新大阪大厦2号楼707室

电话:06-6732-9818

传真:06-6732-9819

营业时间:周一至周五 9:00-17:00

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2026年6月25日 获得认证
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