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锡(Sn)靶材

纯度:99.9%~99.995%

制造方法:真空熔炼法


・Sn(スズ)ターゲットは、主にスパッタリング成膜に用いられ、透明導電膜やEUV光源、太陽電池などの分野で活用されています。​

・透明導電膜(ITO)ターゲットの原料​

・極端紫外(EUV)光源​

・次世代半導体リソグラフィ用のEUV光源ではSnターゲットとして有力視されています。​

・太陽電池​

 ペロブスカイト太陽電池: 電子輸送層の材料として、酸化スズ(SnO₂)やスズ酸塩薄膜の研究が進められています。​

锡靶

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