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锆(Zr)靶材

纯度:99.5%~99.99%


・半導体・マイクロエレクトロニクス​

・拡散バリア層​

・高誘電率(High-k)ゲート絶縁膜​

​
・工具・耐摩耗コーティング​

・硬質コーティング​

​

・光学・ガラスコーティング​

・光学レンズ、反射ミラー、建築用ガラス,​

・反射防止膜や光学フィルターなどに用いられる。​

​

・薄膜太陽電池​

・医療インプラント​

・航空宇宙:高温保護コーティング、遮熱コーティング。​

・原子力産業​

锆靶

Sputtercore有限公司

〒532‐0011

大阪府大阪市淀川区西中岛6-3-32

新大阪大厦2号楼707室

电话:06-6732-9818

传真:06-6732-9819

营业时间:周一至周五 9:00-17:00

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2026年6月25日 获得认证
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