单晶硅（Si）靶

纯度>99.99999%

制造方法：SZ法

用作集成电路 (IC) 和大规模集成电路 (LSI) 制造工艺中的材料。

用作溅射等技术制备光学器件所需薄膜的靶材。

也用作各种电子设备的组件，包括传感器、太阳能电池和变压器。

还用作液晶制造设备等制造设备的部件。