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铌(Nb)靶材

纯度:99.9%~99.999%

制造方法:真空熔炼法


・光学・ディスプレイ​

・反射防止膜を反応性スパッタで成膜します。​

・Nb₂O₅はTiO₂よりも屈折率が高く、スパッタレートや反応性スパッタの安定性にも優れるため、光学レンズや反射防止膜の高屈折率層として広く使われています。​

・ディスプレイ: 液晶ディスプレイ(LCD)やフラットパネルディスプレイのコーティングに使用されます。​

・半導体・エレクトロニクス​

・タッチパネル: Mo-Nb-Ta合金ターゲットとして、タッチスクリーン装置の配線層や酸化層の形成に用いられます。​

・超伝導・特殊分野​

・耐食コーティング​

・弊社ターゲットの特徴​

・純度≧3N8​

・結晶粒径: 成膜の均一性を確保するため、微細でランダム配向な再結晶組織が重要視されます。​

・用途に応じて純度や形状(円形・角形・回転型)をカスタマイズできますので、具体的な仕様が必要であればお知らせください。​

铌靶

Sputtercore有限公司

〒532‐0011

大阪府大阪市淀川区西中岛6-3-32

新大阪大厦2号楼707室

电话:06-6732-9818

传真:06-6732-9819

营业时间:周一至周五 9:00-17:00

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2026年6月25日 获得认证
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