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铬(Cr)靶材

纯度:99.5%~99.98%

制造方法:热等静压法,密度≥99%


・工具・耐摩耗コーティング​

・硬質皮膜​

・密着層​

・金型・耐摩耗部品​

・半導体・エレクトロニクス​

・バリア層​

・抵抗膜​

・装飾・光学コーティング​

・装飾層​

・反射膜・光学:純クロム層により、可視領域で最大60%までの反射率が得られ、第一面ミラーやニュートラルデンシティフィルターなどに用いられます。​

・窓ガラス​

・弊社Crターゲットの特徴​

・高純度:(純度≧3N5)​

・具体的な純度や形状(円形・角形など)の仕様が必要であれば、お知らせください。​
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铬靶

Sputtercore有限公司

〒532‐0011

大阪府大阪市淀川区西中岛6-3-32

新大阪大厦2号楼707室

电话:06-6732-9818

传真:06-6732-9819

营业时间:周一至周五 9:00-17:00

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ISO9001

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2026年6月25日 获得认证
ISO 9001(质量管理体系)

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