钽（Ta）靶材

・タンタル（Ta）ターゲットは主にスパッタリング成膜に用いられ、半導体のバリア層やコンデンサ、耐食コーティングなどの分野で活用されています。​

・半導体・エレクトロニクス​

・銅配線のバリア層​

・コンデンサ・抵抗膜​

・薄膜トランジスタ（TFT）​

・工業用コーティング・その他​

・耐食・高温コーティング​

・光学・医療: 光学分野のコーティングや、医療機器の部品製造にも利用されています。​

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・弊社ターゲットの特徴​

・高純度（≧5N）​

・微細結晶粒成膜の均一性を高めるため、結晶粒径の微細化と均一化が重要視されます。​

・具体的な純度や形状（円形・角形など）の仕様が必要であれば、お知らせください。​