各種ターゲット

酸化チタン（TiO₂）ターゲット

純度>99.9％
密度≧90%
真空焼結、HP法

高屈折率レンズ
光学フィルター
半導体製造プロセス
HDDなどの記録メディア
フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成

酸化アルミ（AI₂O₃）ターゲット

純度>99.9％
密度≧90%
粉末冶金法

チップ製造における絶縁膜、高性能電子部品
センサー、ソーラーパネル、ディスプレイなど
光学機器の表面改質、建築ガラス
伝導性を持つ膜の形成、太陽電池セル

酸化インジウム（In₂O₃）ターゲット

純度>99.99％
密度（7.15/cm³）
焼結法、HP法、高密度可能（≧90%）

液晶、有機EL、プラズマディスプレイなどタッチパネルでの電圧印加用電極
太陽電池の透明電極
車両用フロントガラスやショーウィンドウの曇り止め、電磁波遮断膜、ガスセンサー

ITO（90%In₂O₃10%SnO₂）　　　　　ターゲット

純度>99.99%
密度≧99.7%
粉末冶金法

90:10wt％；95:5wt％；99:1wt%；85:15wt％

画面の透明電極、太陽電池で重要な役割
結露や積雪を防ぐための透明発熱体素材として建築物や自動車の窓などに利用

酸化バナジウム（V₂O₅）ターゲット

純度>99.9％
密度≧85%
真空焼結、HP法

高精細ディスプレイ
光学装置用の薄膜成膜
光学コーティング、センサー技術
有機酸製造用触媒
太陽電池の性能と効率を向上

酸化二ケル（NiO）ターゲット

純度>99.99％
密度（6.67g/cm³）
焼結法、HP法　

抵抗変化型メモリ（RRAM）
透明導電性薄膜（TCO）
ガスセンサー
スピントロニクス

酸化スズ（SnO）ターゲット

純度>99.99％
密度（7.15/cm³）
焼結法、HP法

画面を構成する重要な材料
透明な電極として、画面のタッチ操作を可能にする
帯電防止膜、電磁波遮蔽膜
透明ヒーター、ガスセンサー

酸化ニオブ（Nb₂O₅）ターゲット

純度>99.9％
密度≧99%
HIP法

光学製品の小型化や高性能化
積層セラミックコンデンサ（MLCC）
液晶パネル、ハードディスク、半導体の薄膜形成
太陽電池

石英（SiO₂）リング

純度>99.995％
密度（2.6g/cm³）
焼結法

半導体製造工程
光学機器
化学実験装置
医療機器　

インジウムアンチモン（IAO）　　　ターゲット

純度>99.99％
密度≧85%　
焼結法、HP法　

静電気防止コーティング
塗料にも広く使用
静電気蓄積を著しく減少させる
設備と人の安全を保護する