ハフニウム（Hf）ターゲット

Hf（ハフニウム）ターゲットは高純度・高融点・高い誘電率など要求され​

集積回路やトランジスタなどにおける高誘電体ゲート絶縁膜（例：HfO₂膜）の形成。​

デバイスの高性能化・微細化に不可欠​

耐熱コーティング​

レンズやミラー、レーザー、通信機器などに用いられる光学部品の薄膜コーティング形成
（弊社使用実績あり）​

高精度センサーや環境計測機器、医療用センサー薄膜形成​

薄膜トランジスタ（TFT）やタッチパネル製造におけるスパッタリング工程​

高性能触媒の製造や化学反応プロセスの最適化​