単結晶シリコン（Si）プレーナターゲット

純度>99.99999％
密度（2.33/cm³）
製造方法：SZ法

集積回路（IC）や大規模集積回路（LSI）などの製造プロセスにおける材料として利用、スパッタリングなどの技術を用いて、光学デバイスに必要な薄膜を作るためのターゲット材として使用、センサーや太陽電池、トランスなど、多岐にわたる電子機器の部品としても使用、液晶製造装置などの製造装置用パーツとしても提供