株式会社 スパッタコア
Sputtercore Co.,Ltd.
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スパッタリングターゲットとは
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TEL:06-6732-9818
FAX:06-6732-9819
営業時間:平日9:00~17:00
純度:99.9%~99.995%製造方法:真空溶錬法
・Sn(スズ)ターゲットは、主にスパッタリング成膜に用いられ、透明導電膜やEUV光源、太陽電池などの分野で活用されています。・透明導電膜(ITO)ターゲットの原料・極端紫外(EUV)光源・次世代半導体リソグラフィ用のEUV光源ではSnターゲットとして有力視されています。・太陽電池 ペロブスカイト太陽電池: 電子輸送層の材料として、酸化スズ(SnO₂)やスズ酸塩薄膜の研究が進められています。