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ITO（90%In₂O₃10%SnO₂）　　　　　ターゲット

純度>99.9％ 導電性
密度≧90%
真空焼結、HP法

高屈折率レンズ、光学フィルター、半導体
HDDなどの記録メディア
フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成
光触媒（大気中の窒素酸化物の分解、抗菌）

ITO sputtering target

高屈折率レンズ、光学フィルター、半導体
HDDなどの記録メディア
フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成
光触媒（大気中の窒素酸化物の分解、抗菌）

株式会社スパッタコア

​〒532‐0011

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