多結晶シリコン（Si）リングターゲット

純度>99.999％
密度（2.33/cm³）
製造方法：溶解法と焼結法

CVD装置、アニール炉、拡散炉などの装置の部材として使用されます。高い純度と熱特性が求められる用途に適し、スパッタリング成膜プロセスで使用される材料として用いられ、液晶製造装置の部品としても利用され、薄膜シリコン太陽電池の製造など、太陽光パネルの製造にも使用されます。単結晶に比べて製造コストを抑えられるため、大量生産に適し、ギヤ、センサー、マイクロ静電モータなどのマイクロ構造体の研究や試作にも利用され