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ニオブ(Nb)ターゲット

純度:99.9%~99.999%
製造方法:真空溶錬法


・光学・ディスプレイ​

・反射防止膜を反応性スパッタで成膜します。​

・Nb₂O₅はTiO₂よりも屈折率が高く、スパッタレートや反応性スパッタの安定性にも優れるため、光学レンズや反射防止膜の高屈折率層として広く使われています。​

・ディスプレイ: 液晶ディスプレイ(LCD)やフラットパネルディスプレイのコーティングに使用されます。​

・半導体・エレクトロニクス​

・タッチパネル: Mo-Nb-Ta合金ターゲットとして、タッチスクリーン装置の配線層や酸化層の形成に用いられます。​

・超伝導・特殊分野​

・耐食コーティング​

・弊社ターゲットの特徴​

・純度≧3N8​

・結晶粒径: 成膜の均一性を確保するため、微細でランダム配向な再結晶組織が重要視されます。​

・用途に応じて純度や形状(円形・角形・回転型)をカスタマイズできますので、具体的な仕様が必要であればお知らせください。​

niobium-target

株式会社スパッタコア

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TEL:06-6732-9818

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2026年6月25日 取得
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