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ニオブ(Nb)ターゲット
純度:99.9%~99.999%
製造方法:真空溶錬法

・光学・ディスプレイ
・反射防止膜を反応性スパッタで成膜します。
・Nb₂O₅はTiO₂よりも屈折率が高く、スパッタレートや反応性スパッタの安定性にも優れるため、光学レンズや反射防止膜の高屈折率層として広く使われています。
・ディスプレイ: 液晶ディスプレイ(LCD)やフラットパネルディスプレイのコーティングに使用されます。
・半導体・エレクトロニクス
・タッチパネル: Mo-Nb-Ta合金ターゲットとして、タッチスクリーン装置の配線層や酸化層の形成に用いられます。
・超伝導・特殊分野
・耐食コーティング
・弊社ターゲットの特徴
・純度≧3N8
・結晶粒径: 成膜の均一性を確保するため、微細でランダム配向な再結晶組織が重要視されます。
・用途に応じて純度や形状(円形・角形・回転型)をカスタマイズできますので、具体的な仕様が必要であればお知らせください。

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