top of page
銅(Cu)ターゲット
純度:99.97%~99.9999%
製造方法:溶解法

・半導体・マイクロエレクトロニクス
・銅配線(Cuインタコネクト)
・シード層:
・配線材料の改善: Cu-Al合金やCu-Mn合金ターゲットは、耐エレクトロマイグレーション性や耐食性の向上に寄与します。(弊社にも製造可能)
・ディスプレイ技術
・TFT液晶パネル
・フラットパネルディスプレイ(FPD)
・光学コーティング
・表面技術
・弊社ターゲットの特徴
・高純度≧6N
・低酸素含有量: 酸素含有量を3ppm以下も可能
・結晶粒径成膜の均一性を確保するため、結晶 粒組織が重要視されます。
・具体的な純度や形状(平面・回転・異形)の仕様が必要であれば、お知らせください。

bottom of page
