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銅(Cu)ターゲット

純度:99.97%~99.9999%
製造方法:溶解法


・半導体・マイクロエレクトロニクス​

・銅配線(Cuインタコネクト)​

・シード層:​

・配線材料の改善: Cu-Al合金やCu-Mn合金ターゲットは、耐エレクトロマイグレーション性や耐食性の向上に寄与します。(弊社にも製造可能)​

・ディスプレイ技術​

・TFT液晶パネル​

・フラットパネルディスプレイ(FPD)​

・光学コーティング​

・表面技術​

・弊社ターゲットの特徴​

・高純度≧6N​

・低酸素含有量: 酸素含有量を3ppm以下も可能​

・結晶粒径成膜の均一性を確保するため、結晶粒組織が重要視されます。​

・具体的な純度や形状(平面・回転・異形)の仕様が必要であれば、お知らせください。​

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copper-target

株式会社スパッタコア

​〒532‐0011

大阪府大阪市淀川区西中島6丁目3-32

第2新大阪ビル707号室

TEL:06-6732-9818

FAX:06-6732-9819

​営業時間:平日9:00~17:00

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6-3-32 Nishinakajima, Yodogawa-ku,
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2026年6月25日 取得
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