単結晶シリコン（Si）ターゲット

純度>99.99999％
製造方法：SZ法

集積回路（IC）や大規模集積回路（LSI）などの製造プロセスにおける材料として利用。
スパッタリングなどの技術を用いて、光学デバイスに必要な薄膜を作るためのターゲット材として使用。
センサーや太陽電池、トランスなど、多岐にわたる電子機器の部品としても使用。
液晶製造装置などの製造装置用パーツとしても提供。