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酸化アルミ（AI₂O₃）ターゲット

純度>99.99%
密度≧99.7%
粉末冶金法

チップ製造における絶縁膜、高性能電子部品
センサー、ソーラーパネル、ディスプレイなど
光学機器の表面改質、建築ガラス
伝導性を持つ膜の形成、太陽電池セル

aluminum-oxide-target

株式会社スパッタコア

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2026年6月25日 取得
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