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酸化アルミ（AI₂O₃）ターゲット

純度>99.99%
密度≧99.7%
粉末冶金法

半導体製造核心絶縁、導電層
集積回路IC製造に絶縁層と導電層を成膜し、回路を隔離し、干渉防止
光学デバイス、光学機能膜
太陽光発電；リチウムイオン電池にも使用

aluminum-oxide-target

株式会社スパッタコア

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2026年6月25日 取得
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