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ハフニウム（Hf）ターゲット
純度：99.5％~99.9％
半導体：高Kゲート絶縁膜 リ-ク電流の低減、高帯域幅メモリ、航空宇宙（超音速機）、光学コーティング、敏感物資
半導体：高Kゲート絶縁膜 リ-ク電流の低減、高帯域幅メモリ（HBM）など
航空宇宙、超音速機の耐熱部品高熔点、優れた高温強度と酸化耐性
光学コーティング高屈折率、高硬度、優れた耐久性と光学特性、高硬度、耐磨耗性、耐酸化性により工具などにも使える敏感物資
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純度：99.5％~99.9％
半導体：高Kゲート絶縁膜 リ-ク電流の低減、高帯域幅メモリ、航空宇宙（超音速機）、光学コーティング、敏感物資
半導体：高Kゲート絶縁膜 リ-ク電流の低減、高帯域幅メモリ（HBM）など
航空宇宙、超音速機の耐熱部品高熔点、優れた高温強度と酸化耐性
光学コーティング高屈折率、高硬度、優れた耐久性と光学特性、高硬度、耐磨耗性、耐酸化性により工具などにも使える敏感物資