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什么是溅射靶材?
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書き換え可能な光ディスク(書き換え型DVDなど)の相変化記録膜の製造に用いられます。GeSbTe合金は相変化速度が速く(再結晶時間は約20ナノ秒)、この分野で長く使われてきました。