重要なスパッタリング材料であり、その優れた物理と化学性能のため、半導体、光学、磁性材料などの分野に広く応用されている。

１．特性

　1）高純度と緻密性

・Niターゲットの純度は通常≧99.9%（4 N級）、部分的に99.995%（4 N 5）に達し、薄膜堆積の高品質を確保することができる。

・密度が高く（＞99%）、結晶粒が均一（平均結晶粒サイズ＜20μm）であり、スパッタ成膜の均一性と安定性に有利である。

　2）優れた導電性と熱伝導性

・電気伝導率は約14.3×10×10×S/mであり、電子分野の導電性薄膜の製造に適している。

・熱伝導率90〜100 W／（m・K）でスパッタリング中の放熱を助け、ターゲットの過熱を防止する。

　3）良好な耐食性と抗酸化性

・常温では空気、酸またはアルカリと反応しにくく、化学腐食性が強い。

　4）強磁性及び磁性安定性

・Niは強磁性を有し、キュリー温度は約360°Cであり磁性記憶媒体、センサなどの応用に適している。

　5）優れた加工性能

・延性が良く、平面ターゲット、回転ターゲット、異型ターゲットなどの多種の形状に加工でき、様々な成膜に対応する。

２．主な用途

　1）半導体とマイクロエレクトロニクス業界

・集積回路を製造するための導電層、溶接層及び磁性薄膜素子。

　2）光学コーティングとディスプレイ業界

・Low-Eガラス、自動車コーティング、AR/ARコーティングに応用し、光透過率と耐候性を高める。

　３）磁気記憶とセンサー

・ハードディスクドライブ、磁気記録媒体、磁気センサなどの磁性デバイスのための薄膜堆積。

　４）太陽電池と太陽光発電産業

・透明導電性薄膜（TCO）の構成要素としての光電変換効率の向上。

　５）装飾と工具コーティング

・自動車部品、ジュエリー、刃物などの表面に使用し、耐摩耗性と美観性を強化する。

　６）化学触媒と燃料電池

・触媒または電極材料として、水素化反応を促進し、燃料電池の性能を向上させる。