クロム（Ｃr）ターゲット

高純度クロム（Cr）からなるスパッタリングターゲット。

主にマグネトロンスパッタリング、電子ビーム蒸着などの物理蒸着（PVD）プロセスに用いられ、クロム薄膜または合金コーティングを製造する。

１．特徴

　１）物理特性

・高融点

・高硬度

・優れた熱伝導性

・化学特性

・優れた耐食性

・良好な導電性

２．主な用途

　１）半導体・マイクロエレクトロニクス業界

・集積回路（IC）導電経路

リソグラフィマスク板：クロム薄膜はその高分解能と高コントラストを有しており、リソグラフィプロセスに用いられる。

　２）太陽光発電業界

　３）装飾・保護コーティング

　４）自動車部品

　５）建築とインテリア

　６）工業用耐摩耗コーティング

　７）光学と表示技術