单晶硅靶材是一种高纯度、高结晶质量的硅材料，主要用于**半导体、光伏、光学镀膜和科研领域。以下是其具体用途：

1. 半导体制造

- 集成电路（IC）与微电子器件 

- 在先进制程（如FinFET、GAA晶体管）中，用于沉积硅基导电层或牺牲层。 

-硅化物薄膜

- 与金属（如Ti、Co、Ni）反应生成硅化物（TiSi₂、CoSi₂等），用于降低接触电阻，提升器件性能。 

2. 光伏（太阳能电池）

薄膜太阳能电池

通过PVD（磁控溅射）或CVD（化学气相沉积）制备**非晶硅（a-Si）或微晶硅（μc-Si）薄膜，用于硅基薄膜太阳能电池的吸收层或窗口层。 

- 在钙钛矿太阳能电池中，可作为电子传输层（ETL）或缓冲层的材料来源。 

3. 光学镀膜

红外光学器件

抗反射涂层

4. 显示技术

OLED柔性显示

- 在柔性衬底上沉积硅薄膜，用于驱动背板的薄膜晶体管。