钛靶材的特点及用途

钛靶材主要用于物理气相沉积（PVD）和磁控溅射镀膜工艺。钛及其合金靶材具有优异的耐腐蚀性、高比强度、良好的生物相容性等特点，广泛应用于半导体、航空航天、医疗器械、装饰镀膜等领域。

一、钛靶材的特点

1. 优异的物理化学性能

低密度（4.5 g/cm³）

高熔点（1668°C）

良好的耐腐蚀性 

2. 良好的机械性能

高强度（抗拉强度≥240 MPa），塑性较好

良好的韧性、不易碎裂，适合高功率溅射。 

3. 优异的生物相容性

钛与人体组织相容性好，适用于医疗。 

4. 可合金化

- 可制成Ti-Al、Ti-Ni、Ti-Cu、Ti-Cr等合金靶材，调整薄膜性能（如硬度、导电性）。

二、钛靶材的主要用途

1. 半导体与电子行业

集成电路（IC）：用于制作阻挡层（Barrier Layer），防止铜扩散。

显示器（TFT-LCD/OLED）：作为电极或透明导电氧化物（TCO）的底层材料。

存储设备：用于硬盘、闪存的金属化层。 

2. 光学镀膜

增透膜（AR Coating）：用于镜头、滤光片等光学元件。

反射膜：适用于激光器、望远镜等光学设备。 

3. 医疗器械

4. 航空航天

发动机叶片、航天器外壳：钛膜提供耐高温、抗氧化保护。

卫星光学镜片：镀钛提高反射率和耐久性。

5. 装饰与防护涂层

6. 新能源

7.太阳能电池