镍钒（NiV）靶材是一种由镍（Ni）和钒（V）组成的高纯合金溅射靶材，主要用于 磁控溅射（PVD） 和 电子束蒸发 等薄膜沉积工艺。其独特的成分和性能使其在 半导体、电子、航空航天、光伏太阳能 等领域具有重要应用。 

一、镍钒靶材的特性  

   1. 高纯度与低杂质  

- 工业级NiV靶材纯度通常≥99.9%，高端应用（如半导体）可达 99.99% 甚至更高。 

- 严格控制杂质（如Fe、Al、Si、C、N、O、S等），部分应用要求某些杂质≤10ppm，甚至U、Th≤1ppb。 

   2. 优异的阻挡层性能  - 在集成电路中，NiV合金可同时作为 粘接层（Ni） 和 阻挡层（V） ，防止金（Au）与硅（Si）形成低熔点AuSi化合物，提高界面稳定性。 

   3. 低铁磁性，适合磁控溅射  

- 镍钒合金的铁磁性较弱，减少溅射过程中的异常放电，提高薄膜均匀性。 

   4. 高密度与均匀微观结构  

- 采用 真空熔炼（VIM/VAR） 或 热等静压（HIP） 工艺，确保靶材无气孔、晶粒细小（≤100μm），提高溅射效率。 

   5. 耐高温与耐腐蚀性  

- 钒的加入提高合金的耐高温性能，适用于 650°C 以上的高温环境（如航空发动机涂层）。 

 二、镍钒靶材的主要用途  

   1. 半导体与集成电路  

- 用于 金（Au）导电层 与 硅（Si）衬底 之间的粘接层和扩散阻挡层，提高芯片可靠性。 

- 替代纯镍靶材，减少工艺步骤，提高溅射效率。 

   2. 光伏太阳能  

- 用于 薄膜太阳能电池 的电极层，提高光电转换效率和稳定性。 

   3. 航空航天与高温涂层  

- 用于 航空发动机涡轮叶片、喷管 等高温部件的防护涂层，耐高温氧化和热腐蚀。 

   4. 光学与显示技术  

 用于 Low-E（低辐射）玻璃 镀膜，提高隔热性和透光率。 

- 在 触控面板（ITO玻璃） 中增强导电性和光学性能。 

   5. 核能与能源工业  

- 用于 核反应堆部件 ，耐辐照且高温强度高。 

- 在 石油化工 设备（如高温管道、阀门）中提供耐腐蚀保护。