镍靶材是一种重要的溅射镀膜材料，因其优异的物理和化学性能，广泛应用于半导体、光学镀膜、磁性材料等领域。以下是镍靶材的主要特性和用途

一镍靶材的特性

1. 高纯度和致密性

   - 镍靶材的纯度通常≥99.9%（4N级），部分可达99.995%（4N5），确保薄膜沉积的高质量。 

   - 致密度高（>99%），晶粒均匀（平均晶粒尺寸<20μm），有利于溅射成膜的均匀性和稳定性。 

2. 优异的导电性和导热性 

   - 电导率约14.3×10⁶ S/m，适用于电子行业导电薄膜的制备。 

   - 热导率90-100 W/(m·K)，有助于溅射过程中的散热，防止靶材过热。 

3. 良好的耐腐蚀性和抗氧化性 

   - 在常温下不易与空气、酸或碱反应，适用于化学腐蚀性较强的环境。 

4.铁磁性和磁性稳定性 

   - 镍具有铁磁性，居里温度约360°C，适用于磁性存储介质、传感器等应用。 

5. 优良的加工性能 

   - 延展性好，可加工成平面靶、旋转靶、异型靶等多种形状，满足不同镀二

二镍靶材的主要用途

1. 半导体与微电子行业 

   - 用于制备集成电路的导电层、焊接层及磁性薄膜元件。 

2. 光学镀膜与显示器行业

   - 应用于Low-E玻璃、汽车镀膜、AR/AR涂层，提高透光率和耐候性。 

3. 磁性存储与传感器 

   - 用于硬盘驱动器、磁记录介质、磁传感器等磁性器件的薄膜沉积。 

4. 太阳能电池与光伏产业

   - 作为透明导电薄膜（TCO）的组成部分，提升光电转换效率。 

5. 装饰与工具镀膜 

   - 用于汽车零件、珠宝、刀具等表面镀层，增强耐磨性和美观性。 

6.化学催化与燃料电池

   - 作为催化剂或电极材料，促进氢化反应或提升燃料电池性能。