氧化铟靶材是一种重要的功能材料，具有独特的物理化学性质，广泛应用于多个高科技领域。以下是其特性和用途的详细说明：

一、氧化铟靶材的特性

1.电学性能 

   - 纯In₂O₃为n型半导体，禁带宽度约3.5-3.7 eV，掺杂后电阻率可低至10⁻⁴ Ω·cm。

   - 高载流子迁移率，适合透明导电薄膜制备。

3. 光学性能 

   - 可见光区（380-780 nm）透光率＞85%，红外区反射率高，紫外区吸收强。

   - 折射率约2.0，可用于光学涂层设计。

4. 热学与机械性能 

   - 熔点约1910°C，热膨胀系数与玻璃基板匹配，适合高温沉积工艺。

   - 高硬度（莫氏硬度6-7），但脆性较大，需谨慎加工。

5. 化学稳定性 

   - 耐酸碱腐蚀，在常温下不溶于水和有机溶剂，高温下可与强酸反应。

二、氧化铟靶材的主要用途

1. 透明导电薄膜（TCF） 

   - 应用领域：触摸屏（智能手机、平板）、液晶显示器（LCD）、OLED、太阳能电池电极。

   - 优势：高透光率+低电阻，替代传统金属电极。

2. 光伏产业 

   - 用于薄膜太阳能电池（如CIGS、钙钛矿电池）的透明前电极，提升光吸收和电流收集效率。

3. 节能镀膜 

   - 建筑玻璃Low-E镀膜：反射红外线以调节室内温度，降低能耗。 

4. 气体传感器 

   - 对CO、NO₂等气体敏感，用于环境监测和工业安全设备。 

5. 特殊功能涂层 

   - 抗静电涂层：电子设备屏幕、防电磁屏蔽膜。

   - 防雾涂层：汽车玻璃、相机镜头。