铟靶材的特性和用途

铟靶材是一种重要的溅射镀膜材料，主要由高纯金属铟（In）制成，因其独特的物理和化学性质，广泛应用于半导体、显示面板、太阳能电池等领域。以下是铟靶材的主要特性和用途： 

一、铟靶材的特性

1. 优异的导电性和光透性

- 铟的电阻率低（~8.37×10⁻⁸ Ω·m），适合制作透明导电薄膜（如ITO靶材）。 

- ITO（氧化铟锡）薄膜可见光透过率>95%，紫外线吸收率≥70%，广泛应用于液晶显示器（LCD）和触摸屏。 

2. 低熔点与高沸点

- 铟的熔点仅 **156.61°C，沸点高达 **2080°C**，适用于低温镀膜工艺，同时能在高温环境下保持稳定性。 

3. 良好的延展性和可塑性 

- 铟比铅还软，可压成极薄的金属片（如铟箔），适用于精密镀膜和真空密封材料。 

4. 化学稳定性与耐腐蚀性 

- 常温下不易氧化，但高温下会形成氧化膜，可用于耐腐蚀涂层。 

- 铟镀层能抵抗海水侵蚀，常用于船舶反光镜和真空设备。 

5. 高纯度与均匀性** 

- 工业级铟靶材纯度通常≥ **99.995%（4N5）**，部分可达 **99.9999%（6N），确保薄膜沉积的高质量。 

二、铟靶材的主要用途 

1. ITO靶材（液晶显示与触摸屏）** 

全球70%的铟用于生产ITO靶材，用于制造LCD、OLED、等离子电视等透明导电电极。 

- 还用于触控屏、节能玻璃、汽车显示屏等。 

2. 半导体与微电子行业

- 用于制造PNP锗晶体管、红外探测器（如锑化铟）、光电器件等。 

- 在集成电路中用作导电层或焊料。 

3. 太阳能电池（CIGS薄膜电池）

- 铜铟镓硒（CIGS）薄膜太阳能电池具有高光电转换效率（接近晶体硅电池），且成本更低。 

4. 航空航天与核工业

- 用于制造中子检测器、核反应堆控制棒（铟合金）。 

- 作为宇航设备的高真空密封材料。 

5. 工业镀膜与装饰涂层

- 轴承镀铟可延长使用寿命5倍以上。 

- 用于镜面反射涂层、珠宝装饰镀层等。