碲化锗(GeTe)靶材

碲化锗(GeTe)靶材
碲化锗(GeTe)靶材

碲化GeTe)是一种由Ge)和碲(Te成的化合物射靶材,主要用于磁控射(PVD)、子束蒸等薄膜沉。其独特的特性、热电性能、铁电等物理性,使其在器、热电转换外探离子域具有重要用。

 

 一、GeTe靶材的特性 

1. 特性 

- GeTe在晶α-GeTe)和非晶β-GeTe)之可快速转换,相温度约为725°C,适用于相PCRAM用。 

- 变过程中阻率著(~3-4个数量),可用于高密度存器件。 

2. 热电性能 

- 具有高的热电优值ZT,在中高温热电材料中表突出(ZT可达2.0以上)。 

- 过掺杂(如InBiCu)可流子迁移率,提高热电转换效率。 

3. 隙与高流子迁移率 

- 0.6 eV,适合外光测应用。 

- 流子迁移率(~100 cm²/V·s),适用于高速子器件。 

4. 铁电性与自旋子学 

- 具有铁电,可用于非易失性存器(FeRAM)。 

- 在自旋子学中表自旋道耦合效,可用于新型存逻辑器件。 

5. 度与可成分 

- 业级GeTe靶材≥99.99%,高端用(如半体)可达99.999%以上。 

- 可通过掺杂(如PbBiIn学与学性能。 

 

二、GeTe靶材的主要用途 

1. 器(PCRAM 

- 利用晶-非晶态电阻差异实现数据存,具有高速度、低功耗、高耐久性等优势 

2. 热电转换器件 

- 用于废热发电、固制冷,在航空航天、汽车废热回收域有用潜力。 

3. 外光 

- 隙使其适用于外光探,可用于夜成像等。 

4. //离子极材料 

- 单层GeTe具有高理比容量(Li: 535.4 mAh/gNa: 669.2 mAh/gK: 1070.72 mAh/g),适用于高倍率池。 

5. 自旋子学与量子 

- 可用于自旋道耦合器件、拓扑量子算材料的研究。 

三、最新趋势 

- n掺杂优:通BiIn等元素掺杂提高热电性能。 

- 柔性GeTe薄膜:用于可穿戴热电设备 

- 量子点GeTe:用于高效光