铁靶材是一种重要的溅射镀膜材料，因其优异的磁性能、良好的导电导热性以及较低的成本，广泛应用于磁性存储、电子器件、工业镀膜等领域。以下是铁靶材的主要特性和用途：

一、铁靶材的特性

1. 优异的磁性能

铁磁性：铁是典型的铁磁材料，居里温度（770°C），适用于磁性薄膜制备。 

- 高饱和磁化强度（~2.2 T），可用于高密度磁记录介质。 

2. 良好的导电性和导热性

- 电导率：约1.0×10⁷ S/m**，适用于电磁屏蔽和导电薄膜。 

- 热导率：约80 W/(m·K)，有助于溅射过程中的散热。 

3. 较高的熔点和机械强度

- 熔点：1538°C，适用于中高温溅射工艺。 

- 硬度较高（HV≈80-120），耐磨性较好，适合工具镀层。 

4. 化学稳定性与可调控性

- 纯铁在潮湿环境中易氧化，但可通过合金化（如Fe-Ni、Fe-Co）或表面钝化提高耐蚀性。 

- 可掺杂其他元素（如Si、Al）以调整电磁性能。 

二、铁靶材的主要用途 

1. 磁性存储与传感器 

- 硬盘驱动器（HDD）：用于磁记录介质的薄膜沉积。 

- 磁传感器：如霍尔传感器、磁阻传感器，用于汽车电子、工业检测。 

- 磁性随机存储器（MRAM）：作为铁磁层材料。 

2. 电子与半导体行业

-电磁屏蔽层：用于手机、电脑等电子设备的抗干扰镀膜。 

- 电感与变压器薄膜：提高高频器件的性能。 

3. 工业镀膜与工具涂层 

- 耐磨涂层：用于切削工具、模具表面，延长使用寿命。 

- 防腐镀层：通过合金化（如Fe-Cr）提高耐蚀性，用于船舶、化工设备。 

4. 新能源与催化领域

- 锂离子电池电极材料：如磷酸铁锂（LiFePO₄）薄膜的制备。 

 - 催化剂载体：用于燃料电池、化工催化反应。