铬靶材的特性与用途

铬靶材（Chromium Target）是一种由高纯度铬（Cr）制成的溅射靶材，主要用于物理气相沉积（PVD）工艺，如磁控溅射、电子束蒸发等，以制备铬薄膜或合金涂层。以下是其主要特性和用途：

1. 铬靶材的特性 

物理特性

高熔点 

高硬度 

优良的导热性

化学特性

优异的耐腐蚀性 

良好的导电性 

2. 铬靶材的主要用途

半导体与微电子行业

集成电路（IC）导电路径

光刻掩膜板：铬薄膜因其高分辨率和高对比度，用于光刻工艺。 

光伏行业

3装饰与防护涂层** 

汽车零部件

建筑与家居装饰

4工业耐磨涂层 

5光学与显示技术