ニッケル・バナジウム(NiV)ターゲット

ニッケル・バナジウム(NiV)ターゲット
ニッケル・バナジウム(NiV)ターゲット

ニッケル(Ni)とバナジウム(V)からなる高純度合金スパッタリングターゲットであり、主にマグネトロンスパッタリング(PVD)と電子ビーム蒸着などの薄膜蒸着プロセスに用いられる。その独特な成分と性能は半導体、電子、航空宇宙、太陽光発電などの分野で重要な位置を占める。

 

1.特性

 1)高純度低不純物

・工業用NiVターゲットの純度は通常≧99.9%であり、半導体などのハイエンド用途では99.99%以上に達することができる。

・厳しく不純物(例えばFe、Al、Si、C、N、O、Sなど)を制御し、一部の用途にはいくつかの不純物≦10 ppm、さらにはU、Th≤1ppb。  

 2)優れたバリア性能

・集積回路において、NiV合金は接着層(Ni)とバリア層(V)の両方として、金(Au)とシリコン(Si)との低融点AuSi化合物の形成を防止し、界面安定性を向上させることができる。

 3)マグネトロンスパッタリングに適した低磁性

・合金は強磁性が弱く、スパッタリング中の異常放電を低減し、薄膜均一性を向上させる。

 4)高密度と均一微細構造

・真空溶融(VIM/VAR)または熱間等方圧加圧法(HIP)プロセスによって、ターゲット材の気孔がなく、結晶粒の細粒(≦100μm)を確保し、スパッタ効率を高める。

 5)高温耐性と耐食性

・バナジウムの添加は合金の耐高温性能を高め、650°C以上の高温環境(航空エンジンコーティングなど)に適している。

 

2.主な用途

 1)半導体と集積回路。

 2)太陽光発電

 3)航空宇宙と高温コーティング

・航空エンジンのタービン翼、ノズルなどの高温部品のための保護コーティング、高温酸化と熱腐食に耐える。

 4)光学と表示技術

・Low-E(低放射)ガラスコーティングに用い、断熱性と光透過率を高める。

・タッチパネル(ITOガラス)における導電性及び光学特性の向上。

 5)原子力・エネルギー産業

・放射線に強く、高温強度要求が高い原子炉部品に使用されます。

・高温配管、バルブなどの石油化学プラントに耐食性保護を提供する。