酸化ニオブ(Nb₂Ox)ターゲット

酸化ニオブ(Nb₂Ox)ターゲット
酸化ニオブ(Nb₂Ox)ターゲット

高性能酸化物系セラミックス材料であり、独特な物理的及び化学的性質を有し、半導体、光電子、コーティング技術などの分野に

広く応用されている。

 

1.特性

 1)高い化学安定性

・常温で酸、アルカリなどの化学物質に対して極めて強い不活性を示し、腐食性環境に適している。

 2)優れた電気性能

・半導体絶縁層及びゲート誘電体の理想的な材料となるような高誘電率。

・電池やコンデンサなどのエネルギー貯蔵装置に適している良好な電気化学的安定性。

 3)高融点(~ 1512°C)

・PVD(物理蒸着)及びCVD(化学蒸着)などの高温プロセスに適し高温に耐える。

 4)優れた光学性能

・高屈折率、低分散特性であり、光学膜(フィルター、反射防止コーティングなど)に適している。

 5)高純度と緻密性

・純度は99.9%以上、密度は約4.47 g/cm³に達することができ、スパッタ薄膜の高品質を確保する。

 

2.主な用途

 1)半導体業界

・高誘電率(高−k)絶縁層を製造し、集積回路の性能を向上させるために使用される。

 2)光電子分野

・光通信デバイス(例えば、光導波路)、光検出器、ディスプレイパネル(例えば、OLEDタッチ層)。

 3)光学コーティング

・レンズコーティング、フィルター、低放射ガラス(Low-Eガラス)、熱放射を低減する。

 4)耐高温と防腐コーティング

・航空宇宙エンジンコーティング、化学プラント保護層。

 5)新エネルギー応用

・薄膜太陽電池の透明導電層、光電変換効率を高める。