当社は長尺Max．3.8Mtrのロータリーターゲット製作が可能です。
それにより下記のロータリーターゲットのメリットをより大きくすることが出来ます。
1.材料利用率向上
平面ターゲットが使用済みとなる前にその材料の20～30％しか使用しないが回転式ターゲットでは
70～80％となる。
侵食がシリンダーの周囲で均等に起こるためで無駄な角がなく、不均一な摩耗もありません。
そのため材料の使用効率が良くなります。
2.均一性の向上
ロータリーターゲットの回転運動はスパッタされたフラックスを均一にし、光学、半導体、
または精度が重要な多層アプリケーションにとっても有効です。
3.パーティクルと欠陥の減少
平面ターゲットは、深い溝（レーストラック）ができ、パーティクルを剥がし、膜の欠陥をもたらします。
回転ターゲットは、よりスムーズに磨耗するため、パーティクルが少なく、膜の欠陥が減少します。
4.長寿命、ダウンタイムの低減
ターゲット材がより均一に摩耗します。したがって下記のメリットをもたらします。
・交換間隔の延長
・生産停止の減少
・長時間の稼働でも安定した状態
年中無休の生産や、より高いアウトプットを求める場合に有効です
5.ハイパワープロセスに最適
高出力スパッタリングでは、優れた熱制御が要求されます。
回転ターゲットは低融点材について通常、高温導電性接着剤を使用しており、負荷状態でも良好に保持される。
We are capable of manufacturing rotary targets of max. 3.8Mtr in length.
This allows us to increase the following advantages of rotary targets.
1. Improved material utilization
While a flat target uses only 20-30% of its material before it is spent, with a rotary target that figure is 70-80%.
This is because erosion occurs evenly around the cylinder. There are no wasted corners and no uneven wear.
This makes the use of materials more efficient.
2. Improved Uniformity
The rotary motion of the rotary target makes the sputtered flux uniform, optical, semiconductor,
or for multilayer applications where precision is critical.
3. Reduced particles and defects
Flat targets create deep grooves (race tracks) that strip particles and result in film defects.
Rotating targets wear more smoothly, resulting in fewer particles and fewer film defects.
4. Longer life, less downtime
The target material wears more uniformly. Therefore, the following benefits are brought about longer replacement intervals and
reduced production stoppages
The target material wears more uniformly. Therefore, the following advantages are brought about.
・Longer replacement intervals
・Decrease in production stoppages
∙ Stable condition even after long hours of operation
Effective for without stopping production or when higher output is required
5. Ideal for high-power processes
High power sputtering requires excellent thermal control.
Rotating targets are usually made with high-temperature conductive adhesives for low-melting-point materials and hold up well under load conditions.
该公司可生产长达 3.8 米的旋转靶。这使旋转靶具有以下优势
1. 提高材料利用率。
平面靶材的材料利用率仅为 20-30%，而旋转靶材的材料利用率则高达 70-80%。
这是因为侵蚀均匀地发生在圆筒周围，没有浪费的角落，也没有不均匀的磨损。
这就提高了材料的使用效率。
2. 均匀度提高
旋转靶的旋转运动可产生更均匀的溅射流量，这在光学、半导体和多层应用中非常重要、
这在光学、半导体和多层应用中，或在精度要求很高的多层应用中非常重要。
3. 减少颗粒和缺陷
平面靶材会产生深槽（滚道），从而剥离颗粒并造成薄膜缺陷。
旋转靶的磨损更平滑，颗粒更少，薄膜缺陷也更少。
4. 使用寿命更长，停机时间更短。
靶磨损更均匀。因此具有以下优点。
∙ 更换周期更长
∙ 生产停机时间更短
∙ 即使长时间运行也能保持稳定
适合连续生产和高产出要求
5.高功率工艺的理想选择
高功率溅射需要良好的热控制。
旋转靶材通常采用高温导电粘合剂，适用于低熔点材料，并在负载条件下保持良好的性能。
