铝靶材是一种高纯铝材料,主要用于真空镀膜行业的溅射镀膜工艺,具有良好的导电性、高反射率等特点,广泛应用于半导体、光学、装饰涂层等领域。以下是铝靶材的主要特点和用途:
一、铝靶材的特点
1优异的导电性和导热性
2.高反射率
3.良好的耐腐蚀性
二、铝靶材的主要用途
1. 半导体与电子行业
集成电路(IC):用于制造芯片的导电层和互联线路,确保信号传输效率。
- 显示器(LCD/OLED)**:用于薄膜晶体管(TFT)的电极材料。
- 存储设备**:如硬盘、闪存的金属化层。
2. 光学镀膜
3. 装饰与防护涂层
4. 航空航天
5. 光伏与新能源
太阳能电池:作为电极或反射层,提高光电转换效率。